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科毅科技股份有限公司。

光電與半導體設備─ 曝光機，塗佈機，光罩，平行光源，高靈敏CCD相機. 科毅科技以客製化、自動化優勢，創出良好的銷售佳績，並以專業、積極的售後服務，在眾多半導體 ...： stepper 。

[PDF] 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏。

製程用的設備主要為光. 阻塗佈與顯影機（Track）。

以及曝光機（Scanner），主要的材料為光阻和顯影劑。

微影步驟. 包含去水烘烤、黏著層 ...： 。

[PDF] 第一章、緒論。

晶圓產品每經過一次光阻覆蓋、對準曝光、顯影的光罩加工，謂. 之一層。

... 一、 計算CCR 對準曝光機(Stepper)各群組應保有的在製品. 量及派工警戒值。

。

[PDF] 中華大學碩士論文。

本論文將依照以下章節分別闡述：第二章的部份是敘述疊對(overlay)原理，2.1. 節簡單的介紹了微影工程，所謂曝光機整合系統包含了晶圓軌道機(track)及曝光機. (stepper/ ...： 。

IC 製程- 漢民科技- 提供半導體製造與平面顯示器製程設備。

光阻塗佈：去水烘烤、HMDS塗佈、光阻塗佈、軟烤曝光：以曝光機搭配光罩使用顯影：曝後烤、顯影、硬烤 ... Taiwan Electron Microscope Instrument Corporation (台灣).： 。

曝光機- 維基百科，自由的百科全書。

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語：stepper）或掃描式光刻機（ ...： 。

[PDF] Canon FPA-3000i5+ Stepper。

上節中的任一種誤差發生時，勢必會照成對準效率的下降，其成因都與平台. 上雷射干涉儀的計算有關連(稱之為ABBE 參數)，接下來以本實驗室之I-line 步進. 機其曝光平台為例， ...： 。

圖片全部顯示。

360°科技：步進曝光機。

2009年4月17日 · 半導體步進曝光機(stepper)是目前半導體製程當中最前段也是最關鍵的製程，由於IC設計客戶必須將其設計圖(layout)進行曝光顯影，因此透過步進曝光機微 ...： 。

[PDF] 微影照像。

3. 曝光（exposure）用光罩對準儀（mask aligner）或步進照像機（stepper）。

前者一次曝光一整片晶圓（wafer），後者以步進重覆方式，一次曝光數個晶. 片 ...：