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曝光機- 維基百科，自由的百科全書。

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語：stepper）或掃描式光刻 ...： 。

[PDF] 第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏。

亦稱為步進式曝光，而執行此種步進且重複曝光方式的曝光機稱為步進機. （Stepper） ... 感光劑（PAC）為光阻的感光成分，其主要原理大概可分為兩類，一為接受光源能量.： 。

[PDF] Canon FPA-3000i5+ Stepper。

上節中的任一種誤差發生時，勢必會照成對準效率的下降，其成因都與平台. 上雷射干涉儀的計算有關連(稱之為ABBE 參數)，接下來以本實驗室之I-line 步進. 機其曝光平台為例， ...： 。

[PDF] 黃光微影製程技術。

exposed by aligner, stepper or scanner ... 類似投影機原理，將光罩上的圖. 形投影到光阻上。

優點就是解析 ... 電子束曝光系統的優點就是可以直接生產所需的圖.： 。

[PDF] 第一章、緒論。

罩轉印圖樣原理，將各不同半導體電子元件相接連之。

... 如圖2.3 所示，代表性機台為步進對準曝光機。

... 一、 計算CCR 對準曝光機(Stepper)各群組應保有的在製品.。

[PDF] 中華大學碩士論文。

本論文將依照以下章節分別闡述：第二章的部份是敘述疊對(overlay)原理，2.1. 節簡單的介紹了微影工程，所謂曝光機整合系統包含了晶圓軌道機(track)及曝光機. (stepper/ ...： 。

[PDF] 微型化步進式曝光系統- Lithographic Stepper System - 台灣儀器科技 ...。

2020年9月22日 · www.tiri.narl.org.tw. 本系統由國家實驗研究院台灣儀器科技研究中心自主研發及製造。

儀科中心. 提供曝光機光學設計、機構設計、精密光學元件製作與 ...： 原理? 。

尼康| 业务范围| 精机事业 - Nikon。

集成电路芯片和高分辨率平板显示器是推动IoT和AI进步的关键。

尼康从事这些部件的电路图曝光制造系统的研发和生产，助力智能社会的创建。

平板显示器的制造工艺以及FPD ...： 。

圖片全部顯示。

UV曝光機光學 - 裕群光電。

曝光機主要原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案。

國內Semiconductor半導體曝光製程設備、TFT LCD ...： stepper